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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測(cè)角儀

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

注射泵

干冰清洗機(jī)

程序剪切儀

韓國(guó)波導(dǎo)樹(shù)脂

環(huán)氧樹(shù)脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙

    • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    公司信息

    聯(lián)系人：
    鄧經(jīng)理
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    [供應(yīng)]M-HP 200-加熱板
    M-HP 200-加熱板
    貨物所在地：
    北京北京市
    更新時(shí)間：
    2025-03-26 09:17:39
    有效期：
    2025年3月26日--2026年3月26日
    已獲點(diǎn)擊：
    212
    【簡(jiǎn)單介紹】介紹：
    M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑大為8英寸的晶圓片或大6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)（溫度，加熱時(shí)間）可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)?？稍?到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。
    【詳細(xì)說(shuō)明】

    產(chǎn)品參數(shù)：

    • 型號(hào)：M-HP 200 Hotplate熱板  
    • 處理尺寸：直徑大8英寸晶圓片或大6 英寸x6英寸基板
    • 溫度范圍：20°C至250°C可調(diào)
    • 功率：600瓦
    • 加熱時(shí)間：從1到9999秒
    • 熱板表面安全蓋材質(zhì)：不銹鋼
    • 不帶蓋的熱板尺寸：約350mm x 350mm x 200mm
    • 控制器的尺寸：約135mm x 145mm x 95mm
    • 臺(tái)式柜的尺寸：約 460mm x 360mm x 325mm
    • 重量：約200磅

     

     

    主營(yíng)產(chǎn)品：

    Laurell勻膠機(jī)     

    Harrick等離子清洗機(jī)

    Thetametrisis膜厚儀  

    Microxact探針臺(tái)

    ALD原子層沉積系統(tǒng)

    TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    Uvitron紫外固化箱

    NXQ紫外曝光光刻機(jī)       

    Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

    Nilt納米壓印機(jī)

    Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

    Annealsys高溫退火爐

    Kinematic程序剪切儀

    Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)     

    Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)



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