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北京中慧天誠科技有限公司

多靶磁控濺射鍍膜機

時間:2014-3-21閱讀:537
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多靶磁控濺射鍍膜機型號:YQDH-500JJC貨號:ZH5498
產(chǎn)
  該鍍膜機主于科研實驗,可制備納米和微米的單層及多層工能膜-種硬質(zhì)膜,光學膜,金屬膜,鐵磁薄膜,半導體膜,介質(zhì)膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
  該鍍膜機為前開門式設(shè)計,功能強,鍍膜穩(wěn)定,重復性好,操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材SUS304不繡鋼材料制造,規(guī)范,,了材料的成膜度。
  采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組,具有抽速快,油,操作方便快捷,易于維護的特點。
1     鍍膜方式:可實現(xiàn)多靶共濺模式
2     磁控靶:圓柱/平面靶;
3     進氣系統(tǒng):三路流量計;
4     鍍膜室體積:500×500×600mm3
5     限真空度:6.7×10-5Pa; 恢復真空度:從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞
6     真空抽氣系統(tǒng):機械泵與分子泵組成;
7     真空測量系統(tǒng):數(shù)顯復合真空計;
8     工作電源:真流電源500W;射頻電源500W﹝13.56MHz﹞;加熱控溫電源;
9     工作烘烤溫度:室溫~800℃可控可調(diào)﹝PID控溫﹞;
10    選配件:石英晶振測厚儀,冷卻水機組等;
11    供電電源:三相AC380V,50Hz

 

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