EVG^®7200   Automated SmartNIL^® UV Nanoimprint Lithography S

EVG®7200   自動(dòng)化SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)

具有EVG專有的SmartNIL®技術(shù)的自動(dòng)全場(chǎng)UV納米壓印解決方案（大200毫米）

技術(shù)數(shù)據(jù)

EVG7200系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和EVG的材料專長來實(shí)現(xiàn)微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn)。該系統(tǒng)將SmartNIL的高級(jí)軟印和壓印功能帶到了更大的基板和更小的幾何形狀上，批量生產(chǎn)時(shí)的分辨率低至40 nm *。這帶來了更大的擁有成本（CoO）收益，并實(shí)現(xiàn)了納米壓印光刻技術(shù)的全部制造潛力。

*分辨率取決于過程和模板

特征

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

專有的SmartNIL®技術(shù)和多次使用的聚合物印模技術(shù)

集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作

盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)R＆D模式

可選的頂部對(duì)齊

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)佳過程穩(wěn)定性和可靠性

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）75至200毫米；

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm²

對(duì)準(zhǔn)：可選的頂部對(duì)齊

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的