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MPCVD單晶鉆石沉積設備 參考價：面議
化學氣相沉積法制備高品質單晶鉆石，化學氣相沉積法制備高品質多晶鉆石自支撐厚膜，化學氣相沉積法制備高品質多晶鉆石薄膜
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD） 參考價：面議
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD）是在常規(guī)冷陰極輝光放電基礎上發(fā)展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積生長
PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備 參考價：面議
本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。
激光鍍膜設備 參考價：面議
激光鍍膜設備系統(tǒng)由真空腔室（主濺射室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。激光鍍膜設備廣泛應用...
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備 參考價：面議
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備包括三溫區(qū)管式爐，特殊設計的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設備通過特殊設計的管路，能夠將反應氣體均勻的釋放...
R-PECVD?真空旋轉等離子增強CVD設備 參考價：面議
R-PECVD真空旋轉等離子增強CVD設備由旋轉及傾斜機構、單溫區(qū)管式爐、等離子發(fā)生機構、質量流量計供氣系統(tǒng)、高真空分子泵組部分構成。R-PECVD真空旋轉等離...
PLD脈沖激光濺射沉積設備 參考價：面議
該PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復雜層狀超晶格...
二維硫化鉬生長設備 參考價：面議
二維硫化鉬生長設備由預熱爐、反應爐，真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)以及軌道支架五部分組成。二維硫化鉬生長設備前端配的預熱爐能夠用來預熱蒸發(fā)固態(tài)源，反應爐能夠提供反應所需的熱...
火焰輔助噴霧熱解設備 參考價：面議
火焰輔助噴霧熱解設備用于研究金屬合金和陶瓷的表面質量。 噴霧熱解是通過在加熱的表面上霧化和噴霧溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應形成化合物。在火焰輔助噴霧熱解中...
40K等離子清洗機 -等離子表面清潔處理設備 參考價：面議
等離子清洗機(plasma cleaner)，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)...
等離子表面處理儀 參考價：面議
等離子表面處理儀是一款用于表面處理的緊湊型大氣等離子體射流（所謂的等離子束，等離子筆）系統(tǒng)，由射頻發(fā)生器，柔性氣體輸送管和等離子束頭組成。等離子體射流可以在沒有...
等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價：面議
CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀，可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。設備主要由石英真空室、等離...
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化...
等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置，配有雙級旋轉葉片真空泵，可將等離子濺射和蒸發(fā)集成到一臺小型機器中。等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀專門用...
碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合鍍膜儀 參考價：面議
碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理，碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合鍍膜儀采用機械泵和分子泵...
便攜式煙氣濕度儀 參考價：面議
便攜式煙氣濕度儀采用便攜式設計，結構緊湊，體積小巧，攜帶方便。便攜式煙氣濕度儀采用進口電容式傳感器，具有響應速度快、測量精度高的特點。
煙氣濕度儀 參考價：面議
煙氣濕度儀采用傳感器，保證分析儀使用壽命，煙氣濕度儀具有一體化設計，安裝方便，減少外部干擾對測量值的影響，并且操作簡單、使用壽命長、易于維護。?
煙氣濕度分析儀 參考價：面議
煙氣濕度分析儀采用傳感器，能有效保證儀器精度和使用壽命。煙氣濕度分析儀操作簡單、使用壽命長、易于維護。
PECVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度
等離子體增強型化學氣相沉積PECVD 參考價：面議
化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯...
PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積 參考價：面議
PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區(qū)管式爐，一套鎢絲蒸發(fā)源，一套等離子發(fā)生裝置以及一套質量流量計組成。PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉...
雙溫區(qū)CVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
CVD（化學氣相沉積）氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術，通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應，形成薄膜
純凈型加熱棒 參考價：面議
該純凈型加熱棒主要用于各種爐膛溫度在1200℃以上的實驗電爐。表面已做二次純化處理，不會變色，不會揮發(fā)污染物。是科學研究用實驗電爐的理想配套產品。
加熱型提拉涂膜機 參考價：面議
CY-V-H加熱型提拉涂膜機是一款適用于液相鍍膜制備而設計的精密儀器，可實現(xiàn)智能化編程控制，底部加熱控制?？勺詣油瓿稍阱兡と芤褐卸啻五兡ぶ枨?，重復鍍膜次數(shù)可達...
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