鹵素燈RTP立式快速退火爐 參考價：面議
鹵素燈RTP立式快速退火爐是一款8寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現(xiàn)真正的基底溫度測量，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復性高，...
高真空RTP快速退火爐 參考價：面議
RTP快速退火爐由我公司自主研發(fā)的功能強大的加熱設備。該產(chǎn)品采用進口紅外線加熱管加熱，造型新穎結構合理，爐體和爐管可以自由滑動，可實現(xiàn)快速升降溫
3D打印真空退火爐 參考價：面議
3D高真空退火爐應用范圍:陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材的退火。做真空釬焊、真空燒結、真空脫脂、真空退火等
1200℃RTP退火爐 參考價：面議
1200℃RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現(xiàn)真正的基底溫度測量，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復性高，客...
RTP快速退火爐管式 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。RTP快速退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物
RTP快速退火爐管式 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
管式RTP快速退火爐 參考價：面議
RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP（快速退火爐）是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝.
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP（快速退火爐）是一種用于半導體制造和材料處理的設備，快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝.
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，快速退火爐其核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：面議
RTP快速退火爐是一種用于半導體制造和材料處理的設備，RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
磁控濺射鍍膜加熱臺 參考價：面議
加熱臺主要用于CY-VTC-600-2HD雙靶、CY-VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及CY-GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺的加熱。
帶紅外線加熱的臺式提拉機 參考價：面議
帶紅外線加熱的臺式提拉機旨在盡可能減少操作員的參與，以便微控制器可以準確地保持速度、持續(xù)時間等變量。通過精密伺服電機控制的線性平臺實現(xiàn)運動，提供振動和無噪音操作...
臺式靜電紡絲和電噴霧裝置 參考價：面議
臺式靜電紡絲和電噴霧裝置是一款高壓靜電紡絲機，專門用于制作納米線或是在基底上進行涂層。儀器中的注射泵可連續(xù)不斷地向噴頭輸送流體，且供液速度可調(diào)，滿足不同紡絲溶液...
1650℃布里奇曼單晶生長爐 參考價：面議
布里奇曼晶體生長爐主要應用于半導體材料領域，用于生長各種單晶體，包括硅、藍寶石、氮化硅、碳化硅等.它可以生長高純度、高質(zhì)量和大尺寸的單晶體
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