帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：225600
帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等
OLED有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱 參考價：289000
OLED有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等
手套箱用小型蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：38000
手套箱用小型蒸發(fā)鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸鍍，鍍膜電流最大可達(dá)100A，本型號的小型蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和...
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐用于鈣鈦礦電池薄膜 參考價：158000
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐用于鈣鈦礦電池薄膜適用于薄膜太陽能電池,如CdTe.硫化物和鈣鈦礦結(jié)構(gòu)太陽能電池,這是一款理想的實(shí)驗(yàn)工具
半導(dǎo)體薄膜電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：350000
半導(dǎo)體薄膜電子束蒸發(fā)鍍膜儀，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：154600
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款...
帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：286000
本設(shè)備為帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：98000
本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀 參考價：280000
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備（磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜）及熱處理等，?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩(wěn)定性能...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介...
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：198500
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄...
單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：89700
本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時，可根據(jù)需要分別手...
大功率直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：89000
大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計用于涂覆直徑達(dá)4英寸的所有金...
桌面型雙靶磁控鍍膜儀 參考價：198000
桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機(jī)構(gòu)，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：168900
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制...
真空磁控鍍膜儀腔體 參考價：58000
該真空磁控鍍膜儀腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學(xué)沉積 (CVD)、等離子體化學(xué)沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種鍍膜
桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價：68900
本設(shè)備為桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合...
桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
本設(shè)備為桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時配有偏壓電源，可以用來進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：89500
本設(shè)備為桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型） 參考價：58900
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型）。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去...
桌面型單靶磁控鍍膜儀 參考價：98750
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升...
粉體包覆機(jī)磁控濺射鍍膜機(jī) 參考價：256900
粉體包覆機(jī)磁控濺射鍍膜機(jī)是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料。
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：98000
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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