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當(dāng)前位置:
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[供應(yīng)]OTF-1200X-S-HPCVD-1200°C坩堝可移動(dòng)型管式爐
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  • OTF-1200X-S-HPCVD-1200°C坩堝可移動(dòng)型管式爐
貨物所在地:
江蘇南京市
更新時(shí)間:
2021-09-18 21:00:08
有效期:
2021年9月18日 -- 2022年3月18日
已獲點(diǎn)擊:
47
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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品概述∶?OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可在爐管內(nèi)移動(dòng)(靠步進(jìn)電機(jī)控制)的小型開啟式管式爐。爐管外徑為50mm,設(shè)備*工作溫度為1200℃C。通過觸摸屏數(shù)字控制器控制樣品臺(tái)或坩堝在爐管內(nèi)的位置和溫度。此設(shè)備可進(jìn)行快速熱處理,例如混合物理化學(xué)沉積(HPCVD),快速熱蒸發(fā) (RTE),以及在各種氣氨下進(jìn)行的水平布里奇號(hào)晶體生長(HDC),用于新一代晶體研究。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品名稱1200°C坩堝可移動(dòng)型管式爐
產(chǎn)品特點(diǎn)

爐子配備步進(jìn)電機(jī),通過觸摸屏數(shù)字控制器使樣品臺(tái)或坩堝在爐管內(nèi)移動(dòng)。

*溫度可達(dá)1200℃。

雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),可有效降低殼體表面溫度。

內(nèi)爐膛表面涂有美國進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率,同時(shí)也可以延長儀器的使用壽命。

可選擇改造為雙溫區(qū)管式爐,但需額外付費(fèi),以產(chǎn)生更高的熱梯度或更長的恒溫區(qū)。

基本參數(shù)

*溫度∶ 1200℃(≤30min)

工作溫度∶ 1100℃

推薦升溫速率∶≤10℃/min

加熱區(qū)長度∶200mn

加熱元件∶摻鉬鐵鉻鋁合金

電壓∶220

*功率為∶2KW

真空密封

高純石英管50mmn外徑x44mm內(nèi)徑x 450nm長

采用KF結(jié)構(gòu)密封法蘭,硅膠密封圈密封

法蘭上安裝有一個(gè)機(jī)械壓力表

右端法蘭與一個(gè)真空不銹鋼波紋管連接

坩堝移動(dòng)機(jī)構(gòu)和PLC控制

一個(gè)直徑為1/4"的鎧裝熱電偶(K型),通過法蘭伸入到爐管中,并可隨坩堝移動(dòng),可實(shí)時(shí)監(jiān)測樣品的實(shí)際溫度。(見圖一)

通過步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)爐管內(nèi)的坩堝(樣品臺(tái)),*行程為100mm。

通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標(biāo)位置,坩堝移動(dòng)速度為180mm/min(可根據(jù)要求提供變速控制,但需額外付費(fèi))。(見圖二)

在熱電偶上安裝了一個(gè)微型坩堝舟。( 見圖三)

可根據(jù)要求提供用于晶片的氮化鋁樣品架或石墨平板基底支架,將收取額外的定制費(fèi)(見圖四)。

溫控系統(tǒng)

采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升降溫程序

溫控儀表中帶有過熱和斷偶保護(hù)

· 儀表控溫精度∶ +/- 1°c

熱電偶型號(hào)∶ K型

認(rèn)證

所有電氣部件均為U認(rèn)證,并可通過TUV、cSA認(rèn)證

CE certified 

質(zhì)保

一年保修,終身技術(shù)支持。

特別提示∶ 1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書。

 

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