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1200℃實驗室滑軌爐管式爐

來源:鄭州宏朗儀器設(shè)備有限公司   2020年06月04日 19:02  

1200℃實驗室滑軌爐管式爐功能特點:
本套PECVD系統(tǒng)通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫,配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度;同時通過多路高精度質(zhì)量流量計控制不同氣體。是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇
產(chǎn)品用途:
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
產(chǎn)品參數(shù)

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