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2021
08-13檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備 WO3 薄膜光電性質(zhì)的影響
檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜光電性質(zhì)的影響摘要:以偏鎢酸銨為鎢源,檸檬酸為絡(luò)合劑,聚乙二醇(PEG)為聚合物合成前驅(qū)體溶膠,并用浸漬提拉法在FTO導(dǎo)電玻璃上制備了WO3薄膜,研究配位劑檸檬酸對聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜結(jié)構(gòu)和光電性質(zhì)的影響。采用X線衍射、拉曼光譜和場發(fā)射掃描電鏡等手段研究薄膜的相組成及表面形貌,借助標(biāo)準(zhǔn)三電極體系進(jìn)行了光電化學(xué)測試,并進(jìn)一步討論了檸檬酸對WO3薄膜光電性能影響機(jī)理。結(jié)果表明:CA和W摩爾比為0,0.5,1.0和2.0條件下薄膜表面顆粒平均尺寸分別為60,2021
08-12經(jīng)典實(shí)驗(yàn)-陶瓷/玻璃-使用超聲分篩機(jī)分篩粉末
問題來源:球磨是大多高??蒲性簻p少樣品粒徑的主流方式,但是球磨之后球與粉難于分離,且大多數(shù)粉末會產(chǎn)生團(tuán)聚,分篩時難通過篩網(wǎng)的孔洞。為此科晶推出小型超聲分篩系統(tǒng)可很好的解決以上問題。解決辦法:用小型超聲篩分系統(tǒng),在分篩過程中加入超聲震動。試驗(yàn)案例:超聲波分篩機(jī)分篩球研磨粉末樣品試驗(yàn)簡述:將球磨后的樣品放入分篩機(jī)中,配合不同目數(shù)分篩網(wǎng),篩分樣品。第一步:分散樣品第二步:球與球之間碰撞,將粘在球上的粉料撞擊下來實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:球磨后樣品分篩結(jié)果:分篩機(jī)篩網(wǎng)機(jī)構(gòu)介紹應(yīng)用技術(shù)總結(jié):1.分篩過程可根據(jù)需求放置2021
08-11真空鍍膜技術(shù)的原理在各大行業(yè)里的應(yīng)用
1、真空鍍膜機(jī)PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。2、真空鍍膜機(jī)PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應(yīng)于PVD技術(shù)的三個分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來,真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式之一。我們通常所說的2021
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08-03等離子鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法
等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),等離子鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn),可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)2021
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07-28小型真空管式爐優(yōu)點(diǎn)之多,缺點(diǎn)也有
小型真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。采用先進(jìn)技術(shù)研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐,有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。真空管式爐優(yōu)點(diǎn)之多,缺點(diǎn)也有,不過相對于其優(yōu)點(diǎn)繁多,缺點(diǎn)似乎沒那么重要了。小型真空管式爐優(yōu)點(diǎn):1.工藝成熟;2.爐型結(jié)構(gòu)簡單;節(jié)能型的陶2021
07-282021
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