多功能物理氣相沉積平臺(tái)可搭載濺射,熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā),等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統(tǒng)。允許更大的腔室投擲距離，并能夠適應(yīng)更多工藝增強(qiáng)。
多功能物理氣相沉積平臺(tái)具有500mm x 500mm的底板,最多可容納8個(gè)源和各種PVD工藝,廣泛適合科學(xué)研究、生產(chǎn)需求。
多功能物理氣相沉積平臺(tái)沉積源選項(xiàng)
濺射：射頻、直流、脈沖直流、HIPIMS和無功?？商峁﹫A形、線性和圓柱形陰極。
熱蒸發(fā)：有了Amod PVD平臺(tái)，您可以使用各種長絲和坩堝加熱器。自動(dòng)調(diào)諧確保精確的速率控制。
電子束蒸發(fā)：有多種電源和電源選項(xiàng)可供選擇。帶有配方存儲(chǔ)的可編程掃描控制器通過Aeres軟件平臺(tái)進(jìn)行控制。扭矩感應(yīng)坩堝分度儀檢測(cè)凹槽堵塞。Amod室中有多個(gè)電子束源的空間。
等離子體和離子束處理：我們?cè)贏mod物理氣相沉積平臺(tái)中使用一系列離子源進(jìn)行清潔和膜增強(qiáng)，包括輝光放電等離子體清潔。
多功能物理氣相沉積平臺(tái)特點(diǎn)
易于使用但高度先進(jìn)的集成軟件平臺(tái)
PC/PLC控制的配方，用于單個(gè)、批次或自動(dòng)化過程
先進(jìn)的數(shù)據(jù)記錄和流程跟蹤確保了流程的一致性和可重復(fù)性
高分辨率控制提供了令人印象深刻的低速率穩(wěn)定性和一致的摻雜率
中央控制站管理每個(gè)模塊并調(diào)度每個(gè)腔室中的過程
多個(gè)腔室的獨(dú)立控制（如適用）
可以輕松創(chuàng)建和修改復(fù)雜的配方
自動(dòng)PID控制回路調(diào)整顯著縮短了過程開發(fā)時(shí)間