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產(chǎn)      地:
英國
所在地區(qū):
浙江杭州市
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Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器,具有高效、緊湊的4通道,具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見工藝金屬(如金、銀和鉻)時提供佳的控制力,并且與熱舟源相比,對基底和周圍環(huán)境的熱負荷極小。

Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器

這種技術(shù)利用電子束直接蒸發(fā)棒狀材料,或者通過加熱偏置坩堝間接蒸發(fā)材料。當從坩堝蒸發(fā)時,部分準直的電子束在材料利用率方面比傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)器或熱舟源更具優(yōu)勢,尤其是在處理昂貴材料時。
主動冷卻的銅頭設(shè)計使得在運行過程中幾乎不產(chǎn)生放氣,而封閉的蒸發(fā)槽可以吸收大部分輻射熱,從而進一步降低對基底的熱負荷。Evap-4非常適合在溫度敏感的基底上沉積精確的薄膜涂層。Evap-4配備了通量板,用于測量源材料發(fā)出的離子通量,并提供沉積速率的獨立測量。
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器可在一個單元內(nèi)控制多達4個蒸發(fā)槽,并提供兩種控制模式:
  • 燈絲電流控制:用戶直接調(diào)節(jié)燈絲電流。
  • 功率控制:用戶設(shè)置功率設(shè)定點,電源會自動調(diào)節(jié)燈絲電流以達到所需的功率。

規(guī)格參數(shù)
  • 安裝法蘭:NWCF63
  • 真空內(nèi)長度:標準300毫米(可定制長度)
  • 真空內(nèi)直徑:57毫米
  • 坩堝體積:1000毫米3(1立方厘米)
  • 坩堝材料:鉬(Mo)、鎢(W)、石墨(Gr)
  • 坩堝襯里:氧化鋁(Al?O?)、氮化硼(PBN)
  • 超高真空(UHV)兼容性:是,可烘烤至250°C
  • 冷卻液流量:Min1.0升/分鐘
  • 快門:手動或可選氣動執(zhí)行器
  • 功率:單相100-240伏交流電,50/60赫茲



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