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Minilock-Orion III PECVD PECVD沉積

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薄膜沉積PECVD沉積

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學博士共同創(chuàng)辦的德國公司。基于 Science is international”的想法,“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家,科學開創(chuàng)美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域,始終秉承“前沿、專業(yè)、科學”的宗旨,將前沿技術引進到協(xié)同實驗室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程;材料科學的檢測、分析;生命科學成像,腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商,FIRSTNANO具有全球技術視野、優(yōu)質(zhì)供應體系、以及嚴格的質(zhì)量管控系統(tǒng),能為客戶提供前沿的技術解決方案。

公司服務的客戶領域廣泛,其中包括消費電子、航空、航天、醫(yī)藥技術、半導體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機構(gòu)。

在成長的過程中,我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港(中華區(qū))公司成立以來,我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構(gòu)。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢想揚帆起航!

 

 

 

 

 

半導體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材

產(chǎn)地類別 進口
  PECVD沉積
 
  Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm,且根據(jù)電極配置,可以處理單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
 
  Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、無定形硅和碳化硅。工藝氣體:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、*基硅烷和甲烷。
 
  該系統(tǒng)可選配一個三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應力。
 
  基片通過預真空室裝入工藝室,其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶的安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而保持反應室與大氣隔絕。
 

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