設(shè)備用途

本設(shè)備采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)，線列式PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，用以制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件?？蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

設(shè)備組成

線列式PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備多室CVD結(jié)構(gòu)由2個進(jìn)出片室、3個獨立PECVD反應(yīng)真空室按直線結(jié)構(gòu)連接，工件通過傳輸機(jī)構(gòu)輸送到各個真空室中進(jìn)行工藝處理，各真空室間用插板閥連接。該系統(tǒng)主要由真空室、真空獲得系統(tǒng)、射頻和甚高頻電源、襯底加熱控溫系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)、傳動系統(tǒng)等部分組成。