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Profilm3D KLA 光學(xué)輪廓儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 優(yōu)尼康科技有限公司
  • 品牌 KLA-Tencor
  • 型號(hào) Profilm3D
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/6/25 10:51:58
  • 訪問次數(shù) 4732

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優(yōu)尼康科技有限公司成立于 2012 年。在香港、上海、東莞、天津、成都和蘇州設(shè)有分支機(jī)構(gòu)或辦公室。從成立伊始一直專注于精密薄膜測量領(lǐng)域,為半導(dǎo)體、面板等高科技企業(yè)和高校及研發(fā)中心提供精密測量設(shè)備與解決方案。我們秉承“真誠,專注,信賴”的理念,用我們真誠的態(tài)度與行動(dòng)服務(wù)客戶,專注于為客戶提供好品質(zhì)、適合用戶需求的產(chǎn)品,與每一位客戶建立互相信賴的合作伙伴關(guān)系。我們真誠希望與大家共同成長,共同發(fā)展,一起創(chuàng)造美好的明天。







主動(dòng)式減震臺(tái),Profilm3D光學(xué)輪廓儀,Filmetrics膜厚測量儀,薄膜厚度測量儀,粗糙度測量,輪廓測量,橢偏儀

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 產(chǎn)品種類 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀
價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池
厚度范圍(WLI) 50nm-10mm 厚度范圍(PSI) 0-3μm
RMS重復(fù)性(WLI) 1.0nm RMS重復(fù)性(PSI) 0.1nm
臺(tái)階高度準(zhǔn)確度 0.7% 臺(tái)階高度精確度 0.1%
樣品反射率范圍 0.05%-100%

KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀





KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀產(chǎn)品介紹:

KLA Profilm3D 是一款3D白光干涉輪廓儀。KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀使用垂直干涉掃描(WLI)技術(shù)與相位干涉(PSI)技術(shù)。以較低的價(jià)格實(shí)現(xiàn)次納米級(jí)的表面形貌研究。采用白光干涉原理,不損傷樣品。



KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀產(chǎn)品特點(diǎn)優(yōu)勢:

  • 視場范圍:Profilm3D僅用10倍物鏡就提供了達(dá)到2mm的視場范圍,同時(shí)其最大4倍光學(xué)變焦的功能滿足了不同應(yīng)用時(shí)切換多個(gè)物鏡的需求。這些都進(jìn)一步降低了采購需求成本。

  • 100mm自動(dòng)XY樣品臺(tái):每臺(tái)Profilm3D光學(xué)輪廓儀都配備100mm自動(dòng)XY樣品臺(tái),4孔物鏡轉(zhuǎn)臺(tái)和手動(dòng)調(diào)平裝置作為標(biāo)準(zhǔn)配置。

  • 性價(jià)比高:以較低的價(jià)格實(shí)現(xiàn)次納米級(jí)的表面形貌研究。

  • ?非接觸式高精度測量?:垂直分辨率可達(dá)?亞納米級(jí)?(<1nm),適用于敏感材料(如軟質(zhì)聚合物、生物樣本)的無損檢測。

  • ?測量簡單:?Profilm3D光學(xué)輪廓儀軟件能直觀的反應(yīng)包括表面粗糙度,形狀和臺(tái)階高度的測量。在數(shù)秒內(nèi),您可以獲得平面和曲面表面上測量所有常見的粗糙度參數(shù)。也可以選擇拼接功能軟件升級(jí)來組合多個(gè)影像以提供大面積測量。



KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀產(chǎn)品測量原理:

KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀采用白光作為光源,通過分光鏡將光束分為兩路:一路照射被測樣品表面,另一路投射至參考鏡表面,兩束反射光在CCD相機(jī)上形成干涉條紋。樣品表面的微小高度差導(dǎo)致光程差變化,通過分析干涉條紋的明暗分布及位置偏移,計(jì)算表面各點(diǎn)的相對(duì)高度,生成三維形貌數(shù)據(jù)。



KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀主要應(yīng)用:

臺(tái)階高度

紋理

外形

應(yīng)力

薄膜厚度

缺陷檢測



KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀產(chǎn)品參數(shù):

厚度范圍(WLI)

50nm-10mm

厚度范圍(PSI)

0-3µm

RMS重復(fù)性(WLI):

1.0nm

RMS重復(fù)性(PSI):

0.1nm

臺(tái)階高度準(zhǔn)確度:

0.7%

臺(tái)階高度精確度:

0.1%

樣品反射率范圍:

0.05%-100%

ISO25178兼容:

更多參數(shù)可聯(lián)系我們獲取



KLA Profilm3D 光學(xué)輪廓儀圖:






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