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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>干法工藝設備>等離子體刻蝕設備>DISC-ICP-601/801/1201/ 感應耦合等離子體刻蝕機(ICP)

DISC-ICP-601/801/1201/ 感應耦合等離子體刻蝕機(ICP)

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京中科復華科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 DISC-ICP-601/801/1201/
  • 產(chǎn)地 北京
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/4/7 9:33:40
  • 訪問次數(shù) 163

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北京中科復華科技有限公司是一家致力于為半導體領域和微納米科學領域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導體設備儀器和微納米科學儀器,擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務。   未來公司將不斷和引進在微納米科學領域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品,同時也與全國各所的大學、學院和科研院所建立了良好的合作關系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務。 

納米圖形發(fā)生器,離子束刻蝕/反應離子刻蝕/感應耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機、去膠設備等

應用方向:科研與教學

產(chǎn)品優(yōu)勢:耐氯基強腐蝕氣體,帶雙片送取樣室(Load-Lock)

產(chǎn)品配置:

樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸

刻蝕材料:包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)

Load-Lock:低真空系統(tǒng) 或 高真空系統(tǒng)。雙片裝,樣品自動運送。

刻蝕不均勻性:±3%-±6%

刻蝕速率:0.1-4μm/min(視具體材料與工藝)

工作臺:可升降,包含水冷

電源配置:上電射頻,下電偏壓,包含自動匹配

氣路數(shù)量與種類:6路氣路,其中2路耐腐蝕VCR焊接 或 用戶選配

深硅刻蝕系統(tǒng):可選配

He冷背吹系統(tǒng):可選配

終點檢測控制:可選配質(zhì)譜儀

操作模式:全自動+半自動控制




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