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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>有掩模光刻機>URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機

URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 北京中科復華科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 URE-2000/17/25/35/34AL
  • 產地 成都
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2024/4/7 10:06:04
  • 訪問次數 308
產品標簽

光刻機

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


北京中科復華科技有限公司是一家致力于為半導體領域和微納米科學領域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導體設備儀器和微納米科學儀器,擁有一支經驗豐富、技術過硬的技術團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務。   未來公司將不斷和引進在微納米科學領域中起重要作用的新儀器和新產品,同時也與全國各所的大學、學院和科研院所建立了良好的合作關系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務?!?/span>

納米圖形發(fā)生器,離子束刻蝕/反應離子刻蝕/感應耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機、去膠設備等

1. 技術參數

UV光源:進口LED模塊

曝光中心波長:365nm

光源平行性:2o

曝光分辨率:0.8um-1um

曝光能量密度:>35mW/cm2可調

照度不均勻性:≤2.5%(150mm范圍)

曝光面積:160mm*160mm

光源壽命:2萬小時

曝光設定:定時

曝光頭工作模式:曝光位對準位自動切換(前后移動)

套準精度:±0.8-1 um

可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式,

間隙設定方式:數字設定曝光間隙,自動分離和消除間隙

樣片、掩模版相對移動范圍:X: ±5mm, Y: ±5mm, θ=±6o

掩模版找平方式:球氣浮自動找平

可支持掩模版尺寸: 3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″ 各一件

標配承片臺 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸

標準配件可兼容樣片厚度:0.1-6mm,其他尺寸可定制

可設計工作厚度:50mm

雙目雙視場對準顯微鏡或者光學鏡頭+CCD+顯示器:可通過目鏡目視對準,也可通過CCD+顯示器對準,光學合像,光學倍數400倍,光學+電子放大800倍,物鏡三對:4倍、10倍、20倍,目鏡三對:10倍、16倍、20倍

雙物鏡可調距離范圍:30mm-120mm

顯微掃描范圍:Y:±40mm電動,數字設定)

  設備尺寸:≤700mm




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