請選擇參數(shù)!


-
Vision310等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)--PTI790+系列的
-
Vision410等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)--PTI790+系列的
-
EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機,緊湊和高性能,使用ECR
-
EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束,通過充分利用光束面
-
SENTECHSI591緊湊型RIE等離子蝕刻系統(tǒng)具有負載鎖定功能,是氯基和
-
SENTECH集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個
-
SENTECHSI500CCP系統(tǒng)使用動態(tài)溫度控制和氦背冷卻,代表了材料蝕刻
-
關(guān)于IonSource離子源等離子離子源LMIS和GFIS是三種常見的離子源類
