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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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KLA/科磊
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紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
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Model 32 UV LED 光源 Model 30 準(zhǔn)直紫外光源及曝光系統(tǒng) MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線(xiàn)光強(qiáng)與能量計(jì) Model 656 紫外線(xiàn)光強(qiáng)與能量計(jì) Model 308 紫外線(xiàn)光度計(jì) 太陽(yáng)能電池高性能測(cè)試夾具 太陽(yáng)能功率計(jì) 集成式 IV 光伏測(cè)試系統(tǒng) AML 原位對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合機(jī) CPV 聚光太陽(yáng)模擬器 AAA 標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器 Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī) Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī) Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī) Model 800E 紫外掩膜曝光機(jī) Model 212 紫外掩膜曝光機(jī) Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)
Unitemp/德國(guó)
NanoMagnetics/英國(guó)
Reflow Oven /回流焊

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