單室磁控濺射鍍膜儀 參考價：210000
單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應用于大專院校、...
高真空磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。真空磁控濺射鍍膜儀廣泛應用于科...
可程控磁控濺射鍍膜儀 參考價：265000
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結構，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量、水冷卻及...
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價：189000
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。磁...
小型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：100000
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選...
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：212100
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W的直流電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） 參考價：168000
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價：260000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實驗室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價：198000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實驗室專用鍍膜儀，磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀） 參考價：235000
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀）是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍...
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價：198000
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配源功率從500W-1000W不等的射頻電源。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價：210000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源功率從500W-1000W不等。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價：290000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀 參考價：280000
非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。磁控濺射鍍膜儀將所有元件集成到一層立式機柜中，包括射頻...
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀 參考價：面議
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實驗的觀察記錄...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質的膜層
UPS三靶磁控濺射鍍膜機 參考價：250000
UPS三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體...
磁控濺射真空蒸發(fā)復合型鍍膜設備 參考價：面議
磁控濺射真空蒸發(fā)復合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發(fā)技術結合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用...
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀 參考價：350000
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2“目標源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于涂覆非金屬材料。高真空磁控等離子濺射鍍膜...
四探針磁控濺射薄膜厚度測試儀 參考價：10000
四探針磁控濺射薄膜厚度測試儀用于半導體、薄膜、導電涂層等材料的電學性能測試。四探針薄膜厚度測試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，從而獲得更準確的測量結果
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導...
雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等往復式設...
溫度濕度振動三綜合環(huán)境試驗箱 參考價：面議
溫度濕度振動三綜合環(huán)境試驗箱適用于航空航天產品、信息電子儀器儀表、材料、電式、電子產品、各種電子元氣件在溫度、濕度、振動綜合環(huán)境條件下檢驗其各性能項指標綜合環(huán)境...
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