3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：198700
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1“射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本...
桌面型靶下置型磁控鍍膜儀 參考價(jià)：68000
本設(shè)備為桌面型靶下置型磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快...
行星式單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：58000
本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機(jī)構(gòu)，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺(tái)的功能型。設(shè)備外形為桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求，...
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：58900
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀配有一個(gè)直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)...
桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：32500
本設(shè)備為桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速...
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：210000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：356000
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：159800
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：298000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動(dòng)控制 參考價(jià)：198000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動(dòng)控制可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價(jià)：156200
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)...
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 參考價(jià)：185000
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)...
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：380000
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：458000
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜沉積的高精度設(shè)備.其核心原理是通過(guò)在真空環(huán)境下，利用高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射出來(lái)并沉積在基片表...
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：59000
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體 參考價(jià)：89000
本設(shè)備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：195600
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：169800
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等
分體式單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：269500
本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：389500
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：259800
雙靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置樣品臺(tái)在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個(gè)靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜...
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 參考價(jià)：198000
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備，?雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉(zhuǎn)加熱樣...
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：158000
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
磁控濺射系統(tǒng) 參考價(jià)：390000
磁控濺射系統(tǒng)主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射升級(jí)后，可...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
1