卷繞式高真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：258000
卷繞式高真空蒸發(fā)鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長(zhǎng)，大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物等
帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：225600
帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等
OLED有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱 參考價(jià)：289000
OLED有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)配手套箱，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜等
手套箱用小型蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：38000
手套箱用小型蒸發(fā)鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸鍍，鍍膜電流最大可達(dá)100A，本型號(hào)的小型蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和...
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐用于鈣鈦礦電池薄膜 參考價(jià)：158000
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐用于鈣鈦礦電池薄膜適用于薄膜太陽(yáng)能電池,如CdTe.硫化物和鈣鈦礦結(jié)構(gòu)太陽(yáng)能電池,這是一款理想的實(shí)驗(yàn)工具
半導(dǎo)體薄膜電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：350000
半導(dǎo)體薄膜電子束蒸發(fā)鍍膜儀，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：154600
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款...
帶過(guò)渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：286000
本設(shè)備為帶過(guò)渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：98000
本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀 參考價(jià)：280000
多功能粉體包覆磁控鍍膜儀主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備（磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜）及熱處理等，?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩(wěn)定性能...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介...
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：198500
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開(kāi)發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄...
單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：89700
本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時(shí)，可根據(jù)需要分別手...
大功率直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：89000
大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺(tái)式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ，帶有一個(gè)水冷2英寸靶頭，冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆直徑達(dá)4英寸的所有金...
桌面型雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：198000
桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，在保留高真空不銹鋼腔體的同時(shí)，精簡(jiǎn)了其他機(jī)構(gòu)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：168900
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制...
真空磁控鍍膜儀腔體 參考價(jià)：58000
該真空磁控鍍膜儀腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學(xué)沉積 (CVD)、等離子體化學(xué)沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種鍍膜
桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：68900
本設(shè)備為桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。本型號(hào)配備射頻電源，尤其適合...
桌面型偏壓?jiǎn)伟写趴貫R射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
本設(shè)備為桌面型偏壓?jiǎn)伟写趴貫R射鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時(shí)配有偏壓電源，可以用來(lái)進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗和濺射過(guò)程中施加偏壓
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：89500
本設(shè)備為桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型） 參考價(jià)：58900
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型）。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去...
桌面型單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：98750
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升...
粉體包覆機(jī)磁控濺射鍍膜機(jī) 參考價(jià)：256900
粉體包覆機(jī)磁控濺射鍍膜機(jī)是通過(guò)粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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