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深圳市矢量科學儀器有限公司

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部件鍍膜設備

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Batch Type

品牌韓國真空/IOKOVA

廠商性質經(jīng)銷商

所在地國外

更新時間:2025-06-06 13:55:15瀏覽次數(shù):479次

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部件鍍膜設備實現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎In-line Sputter

高真空基礎In-line Sputter設備,其核心優(yōu)勢如下:
高生產(chǎn)率:
該設備的一個完整生產(chǎn)周期僅需220~360秒,具體時間可能因產(chǎn)品而異。
工藝優(yōu)化與品質提升:
我們對Sputter工藝進行了全面優(yōu)化,從而顯著提升了產(chǎn)品的品質。
引入了Plasma Clean Sputter Plasma Cleaning工藝,有效增強了產(chǎn)品表面的附著力,進一步提升了產(chǎn)品品質。
精密儀器與設備耐用性:
設備采用了精密的儀器安裝工藝,確保了設備的穩(wěn)定運行。
設備具有出色的耐用性,維護周期長,且維護費用低廉。
自主研發(fā)材料:
我們采用了自主研發(fā)的材料,相比其他公司的材料,我們的材料價格更為低廉。
使用自主研發(fā)的材料,我們成功提升了產(chǎn)品的品質,同時提高了生產(chǎn)效率,并優(yōu)化了Arching等控制功能。
綜上所述,這款高真空基礎In-line Sputter設備以其高生產(chǎn)率、優(yōu)化的工藝、精密的儀器安裝、出色的設備耐用性、低廉的維護費用以及自主研發(fā)的高品質材料,為相關行業(yè)提供了顯著的優(yōu)勢和價值。

Chamber & Door∮800 * 1500, 2 Door, STS(SUS)304
Pumping System* RP + MBP + D/P
* Cryo cooled polycold unit
Cooling Devices* Cooling Traps for Pumping Unit
* Cooling Chiller for Cathode
Power Supply* DC Power (Sn, AL, NI, SUS, Sputter)
* Cooling Chiller for Cathode
Control UnitPLC, Touch Screen
Cycle Time4.5~6.5min (根據(jù)產(chǎn)品可能有所不同)



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