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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 金屬有機化學氣相沉積

    Propel HVM GaN MOCVD 系統(tǒng)，用于電源、5G 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件
    型號： Propel HV... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:03:27 對比

  • 超聲波掃描顯微鏡

    PVA TePla SAM系列的超聲波掃描顯微鏡使用簡單，操作方便，是一款用于過程控制和質(zhì)量保證，以及研究應用的無損檢測設備。SAM系列旗下各型號均統(tǒng)一由一個符...
    型號： SAM 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:00:59 對比

  • 原子層沉積ALD

    用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
    型號： Genesis A... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:59:14 對比

  • 金屬有機物化學氣相沉積設備

    適用于光電應用的 Lumina AS/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)
    型號： Lumina AS... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:57:40 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業(yè)研發(fā)而設計。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設計，可最大限度地減少多用戶...
    型號： Beneq TFS... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:53:35 對比

  • 激光橢圓儀

    SE 401adv 通過映射高達 200 毫米的液體單元、用于原位測量的液體單元、攝像機、自動對焦、模擬軟件和經(jīng)過認證的標準晶圓，可根據(jù)您的需求進行調(diào)整。
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:51:40 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統(tǒng)，專門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直...
    型號： Beneq P15... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:49:10 對比

  • 光譜橢偏儀

    SENTECH SER 800 PV光譜橢偏儀符合PERC、TOPCON、HJT和鈣鈦礦技術等新型太陽能電池技術的研發(fā)要求。它操作簡單，具有高測量靈敏度、去偏振...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:46:48 對比

  • 離子束沉積設備

    適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積數(shù)據(jù)存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 （IBD） 系統(tǒng)大幅提高 80Gb/...
    型號： NEXUS IBD 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:44:54 對比

  • 批量晶圓處理等離子系統(tǒng)

    批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設計，其模塊化控制系統(tǒng)使用最新一代處理器，基于 Linux 平臺作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面 (GUI)。因此，可支持手動和全...
    型號： GIGAbatch 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:43:06 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P800 專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...
    型號： Beneq P80... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:40:45 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P400A 專為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時間內(nèi)保持出色的均勻性。我們的客...
    型號： Beneq P40... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:38:45 對比

  • 激光橢圓儀

    多角度激光橢偏儀 SE 400adv PV 在 HeNe 激光波長為 632.8 nm 時，在紋理單晶和多晶硅片上提供抗反射單膜的膜厚度和折射率?？筛鼡Q晶圓支架...
    型號： SE 400adv... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:37:02 對比

  • 離子束沉積設備

    光掩模制造需要高水平的顆?？刂?，同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，...
    型號： NEXUS IBD... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:35:09 對比

  • 自動光譜反射儀

    SENTECH RM 1000 QC反射儀設計用于快速簡單地測量透明或吸收基材上的透明和半透明薄膜的厚度，用于工業(yè)生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制。該工具涵蓋 20 nm ...
    型號： SENTECH R... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:32:51 對比

  • 全自動薄膜質(zhì)量控制

    SENTECH SENDURO®MEMS 提供配置靈活性，以滿足生產(chǎn)控制和質(zhì)量控制的要求。該工具可以配置反射法和橢圓偏振法中的μ點測量，以及提供準確測...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:31:06 對比

  • AP200/300 投影步進式光刻機

    AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:28:59 對比

  • 條形等離子清潔系統(tǒng)

    80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專為半導體加工而開發(fā)，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
    型號： 80 Plus 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:27:06 對比

  • 大氣式等離子清潔系統(tǒng)

    PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
    型號： PlasmaPen... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:25:12 對比

  • LSA 201 環(huán)境控制激光尖峰退火設備

    Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火 （LSA） 系統(tǒng)具有與 LSA101 相同的架構，可在掃描激光系統(tǒng)中實現(xiàn)全晶圓環(huán)境控制。該微室在于它不需要使用真空負...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 10:23:08 對比
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