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NRE-4000 RIE/反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 那諾-馬斯特中國(guó)有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) NRE-4000
  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2018/5/6 20:10:50
  • 訪問次數(shù) 448

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NANO-MASTER(那諾-馬斯特)作為性的專業(yè)薄膜工藝系統(tǒng)的供應(yīng)商,提供的產(chǎn)品涵蓋了沉積、刻蝕、生長(zhǎng)、表面處理、清洗、空間仿真儀器測(cè)試等類別。

主要的設(shè)備包含有:

E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng),Thermal熱蒸發(fā)系統(tǒng);
PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng);
PLD脈沖激光沉積系統(tǒng),DLC類金剛石沉積系統(tǒng);
Sputering磁控濺射(DC&RF)系統(tǒng);
Ion Beam離子束濺射/清洗/刻蝕/研磨系統(tǒng);
RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),DRIE深硅刻蝕系統(tǒng);
ICP電感耦合等離子系統(tǒng);
Plasma等離子清洗/改性/去膠系統(tǒng);
ALD原子層沉積系統(tǒng),PA-MOCVD系統(tǒng);
CNT生長(zhǎng)系統(tǒng),石墨烯生長(zhǎng)系統(tǒng);
PIII等離子注入系統(tǒng),RTP真空退火;
Megasonic兆聲清洗/刻蝕;
Device Testing Systems設(shè)備測(cè)試(空間仿真);
Heated Platens等離子樣品臺(tái)等。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的設(shè)備廣泛應(yīng)用于:LED領(lǐng)域,MEMS領(lǐng)域,納米技術(shù)領(lǐng)域,光電子學(xué),光伏領(lǐng)域,研究開發(fā)、半導(dǎo)體領(lǐng)域,空間仿真學(xué),新興技術(shù)等。

PECVD,PA-MOCVD,蒸發(fā)系統(tǒng),離子束,ALD,等離子源,濺射,刻蝕,熱真空,兆聲清洗機(jī),雙系統(tǒng)

RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

NANO-MASTER(那諾-馬斯特) NRE-4000是一款獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持zui大到12”的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過濾器,以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對(duì)于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。

該系統(tǒng)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級(jí)訪問功能:操作員級(jí)、工程師級(jí)、工藝人員級(jí),以及維護(hù)人員級(jí).允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)?;谌詣?dòng)的控制,該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。


產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體
  • 不銹鋼立柜
  • 能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬
  • 典型的硅刻蝕速率,400 ?/min
  • 高達(dá)12”的陽極氧化鋁RF樣品臺(tái)
  • 水冷及加熱的RF樣品臺(tái)
  • 大的自偏壓
  • 淋浴頭氣流分布
  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級(jí)別
  • 渦輪分子泵
  • NRE-3000zui多支持4個(gè)MFC,NRE-4000zui多支持8個(gè)MFC
  • 無繞曲氣體管路
  • 自動(dòng)下游壓力控制
  • 雙刻蝕能力:RIE以及PE刻蝕(可選)
  • 終點(diǎn)監(jiān)測(cè)
  • 氣動(dòng)升降頂蓋
  • 手動(dòng)或自動(dòng)上下載片
  • 預(yù)真空鎖
  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問保護(hù)
  • *的安全聯(lián)鎖
  • 可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺(tái),用于深硅刻蝕


產(chǎn)品型號(hào):

  • NRE-4000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 44”W
  • NRE-3500:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 26”W
  • NRE-3000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng),占地面積26“D x 26”W
  • NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng)
  • NDR-4000:深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)


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