替代7560K應(yīng)用噴霧器mos管控制工藝
7560K半導(dǎo)體器件制作工藝分為前道和后道工序，晶圓制造和測試被稱為前道（Front End）工序，而芯片的封裝、測試及成品入庫則被稱為后道（Back End）工序，前道和后道一般在不同的工廠分開處理。
前道工序是從整塊硅圓片入手經(jīng)多次重復(fù)的制膜、氧化、擴散，包括照相制版和光刻等工序，制成三極管、集成電路等半導(dǎo)體元件及電極等，開發(fā)材料的電子功能，以實現(xiàn)所要求的元器件特性。
7560K同時，新工藝和新的Trench結(jié)構(gòu)也不斷使得Trench MOS的性能越來越優(yōu)秀。比如，韓國的Jongdae Kim等人提出了一個利用氫退火的自對準工藝，這個工藝只需要3塊光刻版就可以制作出一個可靠性很強的Trench結(jié)構(gòu)［8].日本的Toyota公司提出了一種應(yīng)用于汽車電子FITMOS結(jié)構(gòu)，性能要比傳統(tǒng)的Trench MOS好50%以上［9].在2003年，韓國的ETRI組織提出的兩種新的Trench結(jié)構(gòu)可以將單胞尺寸做到1.6um,在擊穿電壓為43V時，開態(tài)特性電阻為0.28mΩ.c㎡[10].隨著Trench MOS結(jié)構(gòu)和工藝的越來越成熟，人們不再把Trench MOS局限在低壓的范圍內(nèi)。隨著把“super Junction”和“multi RESURF”技術(shù)的引入，100V的Trench MOSFET已經(jīng)日趨成熟，250V、300V的Trench MOSFET也開始有了報道。目前國外很多公司已經(jīng)涉足該領(lǐng)域。如美國國際整流器IR(InternationalRectifier)公司應(yīng)用于汽車領(lǐng)域的基于Trench MOSFET的產(chǎn)品，耐壓包括40V、55V、75V、100V.美國仙童半導(dǎo)體（Fairchild Semiconductor)的Trench MOSFET產(chǎn)品FDB045AN08A0,耐75V,RpsON可以做到3.9mΩ.c㎡(VGs=10V);2003年4月推出的FDB3632/FDP3632/FD13632,耐壓達到100V,RDSON做到7.5mΩ.c㎡（Vos=10V)。

替代7560K常見問題
7560KMOS 開關(guān)原理（簡要）。MOS 是電壓驅(qū)動型器件，只要柵極和源級間給一個適當電壓，源級和漏級間通路就形成。這個電流通路的電阻被成為 MOS 內(nèi)阻，就是導(dǎo)通電阻。這個內(nèi)阻大小基本決定了 MOS 芯片能承受的大導(dǎo)通電流（當然和其它因素有關(guān)，有關(guān)的是熱阻）。內(nèi)阻越小承受電流越大（因為發(fā)熱?。?。
7560KMOS 問題遠沒這么簡單，麻煩在它的柵極和源級間，源級和漏級間，柵極和漏級間內(nèi)部都有等效電容。所以給柵極電壓的過程就是給電容充電的過程（電容電壓不能突變），所以 MOS 源級和漏級間由截止到導(dǎo)通的開通過程受柵極電容的充電過程制約。
然而，這三個等效電容是構(gòu)成串并聯(lián)組合關(guān)系，它們相互影響，并不是獨立的，如果獨立的就很簡單了。其中一個關(guān)鍵電容就是柵極和漏級間的電容 Cgd，這個電容業(yè)界稱為米勒電容。這個電容不是恒定的，隨柵極和漏級間電壓變化而迅速變化。這個米勒電容是柵極和源級電容充電的絆腳石，因為柵極給柵 - 源電容 Cgs 充電達到一個平臺后，柵極的充電電流必須給米勒電容 Cgd 充電，這時柵極和源級間電壓不再升高，達到一個平臺，這個是米勒平臺（米勒平臺就是給 Cgd 充電的過程），米勒平臺大家首先想到的麻煩就是米勒振蕩。（即，柵極先給 Cgs 充電，到達一定平臺后再給 Cgd 充電）
因為這個時候源級和漏級間電壓迅速變化，內(nèi)部電容相應(yīng)迅速充放電，這些電流脈沖會導(dǎo)致 MOS 寄生電感產(chǎn)生很大感抗，這里面就有電容，電感，電阻組成震蕩電路（能形成 2 個回路），并且電流脈沖越強頻率越高震蕩幅度越大。所以最關(guān)鍵的問題就是這個米勒平臺如何過渡。
Gs 極加電容，減慢 MOS 管導(dǎo)通時間，有助于減小米勒振蕩。防止 MOS 管燒毀。


例

鋰電池保護板做充放電開關(guān)使用

一般情況下，MOS都處于開或關(guān)的狀態(tài)，不用考慮MOS的開關(guān)速度，會在整體電路上設(shè)計了快速關(guān)閉回路。
要注意以下幾個點：
1，注意DS電壓，設(shè)計選型留有足夠的余量。按照1.5倍MOS管的BVDDS
2，注意工作電流與保護電流，經(jīng)驗值是3~4倍以上為MOS的ID(DC) 。
3，多顆MOS并聯(lián)，電流的余量盡量再大一點。
4，走大電流的方案，要綜合考慮封裝散熱，內(nèi)阻。
5，驅(qū)動電壓要了解，盡量使MOS工作在*開啟狀態(tài)，對于單片機驅(qū)動的方案，盡量推薦低開啟的MOS。
另外在選用MOS管時要注意溝道類型，BVDDS ，ID導(dǎo)通電流，VGS(th)，RDSON這幾項參數(shù)。

公司介紹
華鎂公司，為一家專業(yè)功率半導(dǎo)體組件(MOSFET)和集成電路芯片的設(shè)計公司。憑借著堅實的產(chǎn)品開發(fā)、營銷業(yè)務(wù)及營運團隊。提供性能優(yōu)異、高信賴性、高性價比的產(chǎn)品及滿足客戶需求的服務(wù)，已獲得眾多客戶于其節(jié)能電子產(chǎn)品中的廣泛使用。目前華鎂可提供的功率半導(dǎo)體元器件產(chǎn)品(12V~1200V)和集成電路芯片（鋰電保護和控制驅(qū)動芯片），產(chǎn)品應(yīng)用范圍含蓋計算機(個人計算機與服務(wù)器)、電源供應(yīng)器、通訊電子產(chǎn)品、手持式電子裝置、消費性產(chǎn)品及工業(yè)應(yīng)用產(chǎn)品等。
華鎂整個團隊秉持著“成就客戶、努力奮斗、持續(xù)學(xué)習(xí)、進取創(chuàng)新、誠信正直、團隊合作”理念，并已累積15年以上的產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗及50余個。
華鎂研發(fā)總部設(shè)在中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)（302 新竹縣竹北市），國內(nèi)研發(fā)和應(yīng)用總部位于張家港市和蕪湖市，國內(nèi)市場主要以成品及Wafer銷售和配套服務(wù)為主。

替代7560K應(yīng)用噴霧器mos管控制封裝
7560K采用的深溝道硅(trench silicon)MOSFET工藝，還能顯著降低傳導(dǎo)、開關(guān)和柵極電荷損耗；并能兼容多種控制器，可實現(xiàn)不同的工作模式，支持主動相變換模式APS（Auto Phase Switching）。
7560K除了QFN封裝外，雙邊扁平無引腳封裝（DFN）也是一種新的電子封裝工藝，在安森美的各種元器件中得到了廣泛采用，與QFN相比，DFN少了兩邊的引出電極。
7560K除了外部封裝，基于電子制造對MOS管的需求的變化，內(nèi)部封裝技術(shù)也在不斷得到改進，這主要從三個方面進行：改進封裝內(nèi)部的互連技術(shù)、增加漏極散熱板、改變散熱的熱傳導(dǎo)方向。



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