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FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 那諾中國(guó)有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) FLATSCAN
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/7/4 15:20:44
  • 訪問次數(shù) 358

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那諾中國(guó)有限公司專注于為大中華區(qū)域(包括中國(guó)大陸、香港、澳門和中國(guó)臺(tái)灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機(jī)構(gòu)提供高性能、高性價(jià)比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測(cè)儀器。


那諾中國(guó)提供美國(guó)那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機(jī)等)。


那諾中國(guó)提供英國(guó)KORE基于飛行時(shí)間的質(zhì)譜儀,包含飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)(PTR)質(zhì)譜儀、電子轟擊電離(EI)質(zhì)譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD,飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)

FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀一種具有大測(cè)量范圍的非接觸式光學(xué)表面輪廓儀,適用于對(duì)晶圓應(yīng)力(薄膜應(yīng)力)、表面曲率(半徑)以及斜率進(jìn)行高精度的二維或三維測(cè)量。


薄膜應(yīng)力測(cè)試儀


用于表面輪廓測(cè)量的光學(xué)測(cè)量原理

FLATSCAN  薄膜應(yīng)力測(cè)試儀用于對(duì)各種反射面(如硅片、鏡面、X 射線鏡(Goebel-mirrors)、金屬表面或拋光聚合物)的平整度、表面曲率、平均半徑和薄膜應(yīng)力(晶圓應(yīng)力)進(jìn)行非接觸式測(cè)量。光學(xué)測(cè)量原理確保了高精度。其基于對(duì)垂直入射激光束沿具有恒定步長(zhǎng)的線的反射角進(jìn)行測(cè)量。從測(cè)量點(diǎn)之間反射角的變化可以精確計(jì)算出表面輪廓。對(duì)于某些應(yīng)用,反射角本身(表面斜率)也很重要。因此,軟件還提供了這種測(cè)量選項(xiàng)。

在半導(dǎo)體技術(shù)的應(yīng)用中,可通過測(cè)量鍍膜前后晶圓的曲率半徑來計(jì)算涂層的薄膜應(yīng)力(晶圓應(yīng)力)。


測(cè)量區(qū)域大

所用測(cè)量原理的一個(gè)特點(diǎn)是它與測(cè)量區(qū)域無關(guān)。因此,200mm 的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量場(chǎng)直徑幾乎可以任意增加,而不會(huì)降低精度。


測(cè)量精度高

FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測(cè)量?jī)x具有高測(cè)量精度的特點(diǎn)。測(cè)量系統(tǒng)的分辨率可達(dá) 0.1arcsec。表面形狀的再現(xiàn)性優(yōu)于 100 nm。


測(cè)量范圍和工作距離大

測(cè)量范圍是指在一次掃描中能夠測(cè)量的最大矢高(或最小可測(cè)曲率半徑)。FLATSCAN 的一大特點(diǎn)是測(cè)量范圍極其寬廣,這是其他競(jìng)爭(zhēng)測(cè)量方法(如條紋干涉儀或相移干涉儀)所無法實(shí)現(xiàn)的。

因此,F(xiàn)LATSCAN 薄膜應(yīng)力測(cè)量?jī)x適用于測(cè)量具有強(qiáng)曲率的表面,例如goebel 鏡、硅片或其他類似的表面。所采用的光學(xué)測(cè)量原理不受工作距離的影響,并確保了較高的工作距離,因此不會(huì)對(duì)樣本造成損壞的危險(xiǎn)。


可選的2D/3D測(cè)量

根據(jù)設(shè)備類型,可選擇進(jìn)行單線掃描或完整的 3D 掃描。3D 掃描由眾多單線掃描自動(dòng)組合而成,具有自動(dòng)樣本定位功能。該軟件提供了所有優(yōu)良的圖形和數(shù)值表示測(cè)量結(jié)果的常用功能,例如 3D 表征、剖面圖和測(cè)量報(bào)告。


用于計(jì)算薄膜應(yīng)力的軟件模塊

該軟件配備了一個(gè)基于Fowkes 理論計(jì)算薄膜應(yīng)力的模塊,適用于半導(dǎo)體技術(shù)以及所有涉及表面改性(如涂層或去除涂層)的應(yīng)用,能夠快速、輕松地測(cè)量薄膜應(yīng)力。薄膜應(yīng)力是根據(jù)鍍膜過程前后平均曲率半徑計(jì)算得出的。



主要技術(shù)參數(shù):

1、激光束非接觸式測(cè)量

2、具有自動(dòng)測(cè)量晶圓的輪廓、曲率和薄膜應(yīng)力的功能

3、表面曲率的重復(fù)性(P-V)≤100nm

4、光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)的分辨率:0.1arcsec

5、光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)的精度:1arcsec

6、掃描速度:10~30mm/s

7、可測(cè)量范圍:標(biāo)準(zhǔn)φ200mm、300mm,更大可定制



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