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產(chǎn)品分類(lèi)品牌分類(lèi)

刻蝕系統(tǒng): RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng) ICP及DRIE刻蝕系統(tǒng) IBE離子束刻蝕系統(tǒng) RIE-PE刻蝕機(jī)

沉積系統(tǒng): Parylene派瑞林真空鍍膜系統(tǒng) 進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī) TE熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 磁控濺射系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PLD脈沖激光沉積

生長(zhǎng)系統(tǒng): MOCVD設(shè)備 ALD原子層沉積系統(tǒng) MOVPE設(shè)備

清洗去膠系統(tǒng): 等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機(jī) 大基片清洗/去膠/濕法刻蝕 MW微波等離子清洗去膠系統(tǒng) 離子束清洗系統(tǒng) 研發(fā)用等離子去膠機(jī)

熱真空試驗(yàn)系統(tǒng): 熱真空試驗(yàn)箱熱真空環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備空間環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備熱真空系統(tǒng)

核心組件: Platens樣品臺(tái) 等離子體源

檢測(cè)系統(tǒng): 飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀

量測(cè)系統(tǒng): 晶圓厚度測(cè)量?jī)x 接觸角測(cè)量?jī)x 薄膜曲率應(yīng)力測(cè)量?jī)x

晶圓加工設(shè)備: 晶圓劃片機(jī)

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ICP等離子刻蝕機(jī)
NRE-4000（ICPM）ICP等離子刻蝕機(jī)：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻...

型號(hào)： NRE-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:21:39 對(duì)比

NRE-4000ICP刻蝕系統(tǒng)NRE-4000ICP刻蝕機(jī)進(jìn)口ICP等離子刻蝕機(jī)ICP刻蝕機(jī)
NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕：全自動(dòng)上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:19:16 對(duì)比

全自動(dòng)深反應(yīng)離子刻蝕全自動(dòng)DRIE系統(tǒng)全自動(dòng)深硅刻蝕系統(tǒng)進(jìn)口深硅刻蝕系統(tǒng)
NDR-4000（M）DRIE深反應(yīng)離子刻蝕
NDR-4000（M）DRIE深反應(yīng)離子刻蝕：是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:16:54 對(duì)比

深反應(yīng)離子刻蝕機(jī)深硅刻蝕系統(tǒng)進(jìn)口DRIE系統(tǒng)進(jìn)口深硅刻蝕系統(tǒng)
NPC-4000（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-4000（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:14:53 對(duì)比

NPC-4000等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子去膠機(jī)進(jìn)口去膠機(jī)價(jià)格
NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:12:35 對(duì)比

NPC系列等離子刻蝕機(jī)全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)進(jìn)口等離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-3500（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:10:57 對(duì)比

全自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)NPC系列自動(dòng)刻蝕機(jī)進(jìn)口自動(dòng)等離子刻蝕機(jī)
NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:09:12 對(duì)比

NPC系列等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子灰化機(jī)進(jìn)口去膠機(jī)價(jià)格
NPC-3000等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-3000等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:06:57 對(duì)比

進(jìn)口等離子去膠機(jī)進(jìn)口等離子灰化機(jī)進(jìn)口等離子清洗機(jī)
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:04:56 對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)價(jià)格RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)進(jìn)口反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3500（M）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-3500（M）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：PC控制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:01:08 對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)價(jià)格RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)進(jìn)口反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕
NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕：獨(dú)立式RIE系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:59:07 對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-4000刻蝕機(jī)
NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕
NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:57:16 對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕
RIBE反應(yīng)離子束刻蝕
NIE-4000（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...

型號(hào)： NIE-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:54:56 對(duì)比

反應(yīng)離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000IBM離子銑
NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)
NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:53:19 對(duì)比

離子銑系統(tǒng)NIE-4000離子銑IBM離子銑系統(tǒng)
NIM-4000（A）全自動(dòng)離子銑刻蝕
NIM-4000（A）全自動(dòng)離子銑刻蝕：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:51:33 對(duì)比

NIM系列離子銑NIE-4000IBM離子銑
NIE-4000（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
NIE-4000（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:49:18 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBM離子銑
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:46:54 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBM離子銑
NIE-3000IBE離子束刻蝕
NIE-3000IBE離子束刻蝕：是一款手動(dòng)放片/取片，但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:45:21 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-3000IBM離子銑
NIE-3500（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕
NIE-3500（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕：是一款自動(dòng)放片/取片，并且工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:43:40 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-3500IBM離子銑
NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕
NIE-3500（M）IBE離子束刻蝕：是一款手動(dòng)放片/取片，但工藝過(guò)程為全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/4/28 7:41:16 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-3500IBM離子銑

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