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涂膠與顯影機
ACS300 Gen2 涂布機和顯影劑用于晶圓級封裝的生產(chǎn)旋涂/開發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:41:23 對比

涂膠顯影半導(dǎo)體前道工藝
氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備
詳細(xì)介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設(shè)備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導(dǎo)工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產(chǎn)品。由...
型號： Seehund&#... 所在地：徐州市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:37:25 對比

金屬沾污收集
去膠機
用于封裝領(lǐng)域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:23:35 對比

光阻去除掩膜版清洗
去膠機
適用于半導(dǎo)體及LED芯片制造領(lǐng)域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:19:56 對比

去膠
單片清洗機
用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝，配合清洗化學(xué)藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機物...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:17:42 對比

晶圓清洗
全自動SCRUBBER清洗機
清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除，實現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結(jié)合，...
型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:13:38 對比

晶圓清洗
12寸集束型涂膠顯影機
KS-C300涂膠顯影機可用于封裝、 MEMS、OLED等領(lǐng)域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產(chǎn)品可兼容不同材質(zhì)的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
型號： KS-C300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:11:10 對比

涂膠顯影
12寸噴霧式涂膠機
KS-S300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣，避免溝槽堆積...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:09:27 對比

涂膠顯影
涂膠顯影半自動機臺
KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗和生產(chǎn)線。占地面積小，操作時...
型號： KS-M300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:07:40 對比

涂膠顯影
星型全自動涂膠顯影機
KS-S150星型全自動涂膠顯影機用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{(lán)寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓，產(chǎn)品涉及多個應(yīng)用...
型號： KS-S150 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:06:06 對比

涂膠顯影
涂膠顯影機
KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:00:21 對比

涂膠顯影
高精密微3D光刻機
織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設(shè)備，最高光學(xué)分辨率可達(dá)1μm，支持最大50 mm×50 mm&#...
型號：織雀™... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2025/6/5 17:09:44 對比

高精密微3D光刻
無掩膜光刻機
BIO系列是生命科學(xué)版的無掩膜紫外光刻機，無掩膜光刻機具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)領(lǐng)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品。在微...
型號： BIO L+ 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2025/6/5 17:02:00 對比

生命科學(xué)領(lǐng)域微流控芯片
無掩膜光刻機
Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一...
型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:57:54 對比

無掩膜版紫外光刻機
無掩膜光刻機
ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡單。...
型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:53:38 對比

高分辨率高套刻精度無掩膜光刻
激光掩模光刻機
ULTRA激光掩模光刻機是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT）和 ME...
型號： ULTRA 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:49:59 對比

高吞吐量半導(dǎo)體光掩模 ULTRA
無掩模直接成像儀光刻機
PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
型號： VPG 300 D... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:43:56 對比

高精度高分辨率
有掩膜光刻機
VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:39:38 對比

掩模制造
激光光刻機
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計用于集成電路、MEMS、...
型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:35:30 對比

灰度光刻
雙光子聚合直寫光刻機
MPO 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合（TPP）多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)...
型號： MPO 100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:30:58 對比

微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻 3D 顯微打印

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