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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 8英寸離子束塑形（IBS）設(shè)備

    Lorem® A 系列常規(guī) IBS 設(shè)備，由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產(chǎn)生遠(yuǎn)離晶圓空間，起輝不...
    型號(hào)： Lorem... 所在地：徐州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 21:15:45 對(duì)比

  • 12英寸離子束塑形（IBS) 設(shè)備

    Pangea®A系列常規(guī)IBS設(shè)備由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產(chǎn)生遠(yuǎn)離晶圓空間，起輝不受非揮發(fā)...
    型號(hào)： Pangea... 所在地：徐州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 21:13:49 對(duì)比

  • 12英寸特種金屬膜層刻蝕設(shè)備

    LMEC-300™ 是魯汶儀器針對(duì)特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設(shè)備，應(yīng)用于新興存儲(chǔ)器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復(fù)雜的金屬疊...
    型號(hào)： LMEC-300 所在地：徐州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 21:11:35 對(duì)比

  • 單片濕法刻蝕機(jī)

    滿足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
    型號(hào)： KS-S300-E 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:25:30 對(duì)比

  • 開蓋等離子蝕刻系統(tǒng)

    等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟(jì)高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點(diǎn)。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
    型號(hào)： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:43:59 對(duì)比

  • 等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實(shí)現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結(jié)構(gòu)。
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:27:46 對(duì)比

  • 等離子體蝕刻系統(tǒng)

    SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設(shè)計(jì)的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
    型號(hào)： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:26:15 對(duì)比

  • 原子層刻蝕

    ALE是一種先進(jìn)的刻蝕技術(shù)，可以針對(duì)較淺的微結(jié)構(gòu)進(jìn)行出色的深度控制。 隨著器件微結(jié)構(gòu)尺寸越來(lái)越小，要達(dá)到器件的更高性能可以通過(guò)ALE技術(shù)所具有的精度來(lái)實(shí)現(xiàn)。在如...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:13:14 對(duì)比

  • Lancer離子束蝕刻系統(tǒng)

    新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統(tǒng)專為開發(fā)和生產(chǎn)智能手機(jī)、自動(dòng)駕駛汽車和其他可實(shí)現(xiàn)連接性、功能性和移動(dòng)性的“物聯(lián)網(wǎng)"設(shè)備中的下一代電...
    型號(hào)： 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:03:26 對(duì)比

  • 干法刻蝕裝置

    對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
    型號(hào)： NLD-5700 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 15:10:19 對(duì)比

  • 干法刻蝕設(shè)備

    干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX對(duì)應(yīng)LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對(duì)我司以往設(shè)備實(shí)現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號(hào)： APIOS NE-... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 15:08:22 對(duì)比

  • NLD干法刻蝕設(shè)備

    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
    型號(hào)： NLD-570 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 15:06:19 對(duì)比

  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對(duì)應(yīng)刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號(hào)： ULHITETM ... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 15:03:51 對(duì)比

  • 刻蝕設(shè)備

    量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700/NE-7800量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700/NE-7800是可以對(duì)應(yīng)單腔及多腔、重視性價(jià)比擁有擴(kuò)展性的刻蝕設(shè)備。
    型號(hào)： NE-5700/N... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 15:01:45 對(duì)比

  • 緊湊型刻蝕設(shè)備

    RIE-1C是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的緊湊型刻蝕設(shè)備?？梢愿咝?、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡(jiǎn)單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個(gè)過(guò)程?？梢苑旁谧烂嫔希部?..
    型號(hào)： RIE-1C 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 14:05:08 對(duì)比

  • RIE等離子刻蝕設(shè)備

    RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設(shè)備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×...
    型號(hào)： RIE-300NR 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 14:02:54 對(duì)比

  • RIE等離子刻蝕設(shè)備

    RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly...
    型號(hào)： RIE-200C 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 14:00:57 對(duì)比

  • RIE等離子刻蝕系統(tǒng)

    RIE-200NL是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。優(yōu)化的工藝室設(shè)計(jì)可在ø8 “晶圓或ø22...
    型號(hào)： RIE-200NL 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 13:58:44 對(duì)比

  • 等離子體刻蝕設(shè)備

    高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
    型號(hào)： RIE-800iP 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 13:56:54 對(duì)比

  • RIE等離子刻蝕設(shè)備

    RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動(dòng)RIE等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計(jì)算機(jī)化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲(chǔ)提供了一個(gè)用戶友...
    型號(hào)： RIE-10NR 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 13:55:13 對(duì)比
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