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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī)

    無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī) MLA 300 提供高吞吐量、簡(jiǎn)化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) (MES) 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號(hào): MLA 300 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:28:32 對(duì)比
  • 無(wú)掩模直接成像儀

    VPG 300 DI 無(wú)掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器,專(zhuān)為在 i 線光刻膠中直接寫(xiě)入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具,具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)...
    型號(hào): VPG 300 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:22:48 對(duì)比
  • 激光光刻機(jī).

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化,設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
    型號(hào): DWL 2000 ... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:18:52 對(duì)比
  • 原子層沉積(ALD)

    FlexAL系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積(ALD),這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計(jì)提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產(chǎn)品家族涵蓋的系列設(shè)備可以滿足學(xué)術(shù)界、...
    型號(hào): FlexAL 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:13:14 對(duì)比
  • ICPCVD

    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能夠確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)...
    型號(hào): PlasmaPro... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:11:24 對(duì)比
  • 投影步進(jìn)電機(jī)

    AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺(tái)™構(gòu)建,可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能,并可實(shí)現(xiàn)高度自動(dòng)化和具有成本...
    型號(hào): AP200/300 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:07:13 對(duì)比
  • 離子束濺射 (IBD) 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

    用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射 (IBD) 光學(xué)鍍膜系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)具有多...
    型號(hào): SPECTOR 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:05:19 對(duì)比
  • Lancer離子束蝕刻系統(tǒng)

    新型 Lancer™ 離子束蝕刻 (IBE) 系統(tǒng)專(zhuān)為開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)智能手機(jī)、自動(dòng)駕駛汽車(chē)和其他可實(shí)現(xiàn)連接性、功能性和移動(dòng)性的“物聯(lián)網(wǎng)"設(shè)備中的下一代電...
    型號(hào): 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:03:26 對(duì)比
  • 鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)

    鍵合對(duì)準(zhǔn)機(jī)BA Gen4 是專(zhuān)為手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)并鍵合兩個(gè) 200 毫米以下晶圓而設(shè)計(jì)的。選配掩模對(duì)準(zhǔn)器工具后還可使用各種功能。BA Gen4 Series 用于先進(jìn)封...
    型號(hào): BA Gen4 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:01:36 對(duì)比
  • 無(wú)掩模光刻機(jī)

    μMLA無(wú)掩模光刻機(jī)是優(yōu)良的無(wú)模板技術(shù),建立在著名的 μPG 平臺(tái)之上,該平臺(tái)是臺(tái)式無(wú)模板系統(tǒng)。
    型號(hào): μMLA 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:59:06 對(duì)比
  • 涂膠與顯影機(jī)

    ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng),是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能,可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制,有效地支持廣泛的使用...
    型號(hào): ACS300 Ge... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:57:03 對(duì)比
  • 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)

    掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) ...
    型號(hào): MaskTrack... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:55:10 對(duì)比
  • 干法刻蝕裝置

    對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(NLD- neutral l...
    型號(hào): NLD-5700 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:10:19 對(duì)比
  • 干法刻蝕設(shè)備

    干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX對(duì)應(yīng)LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對(duì)我司以往設(shè)備實(shí)現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號(hào): APIOS NE-... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:08:22 對(duì)比
  • NLD干法刻蝕設(shè)備

    研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備N(xiāo)LD-570研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備N(xiāo)LD-570,是搭載了愛(ài)發(fā)科磁性中性線(NLD- neutral loop discha...
    型號(hào): NLD-570 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:06:19 對(duì)比
  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對(duì)應(yīng)刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號(hào): ULHITETM ... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:03:51 對(duì)比
  • 刻蝕設(shè)備

    量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備N(xiāo)E-5700/NE-7800量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備N(xiāo)E-5700/NE-7800是可以對(duì)應(yīng)單腔及多腔、重視性價(jià)比擁有擴(kuò)展性的刻蝕設(shè)備。
    型號(hào): NE-5700/N... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:01:45 對(duì)比
  • 濺射鍍膜設(shè)備(立式)

    濺射鍍膜設(shè)備SMD系列(立式)SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅SMD系列就有超過(guò)1000臺(tái)的豐富的采用實(shí)績(jī),在各種各...
    型號(hào): SMD系列 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:59:51 對(duì)比
  • Load-lock式濺射設(shè)備

    Load-lock式濺射設(shè)備是可對(duì)應(yīng)從研究開(kāi)發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。這種設(shè)備通過(guò)在真空濺射室之前增加一個(gè)預(yù)真空鎖室(Load-lock chamber),實(shí)現(xiàn)...
    型號(hào): CS-200 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:58:03 對(duì)比
  • 批次式濺射設(shè)備

    批次式濺射設(shè)備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。
    型號(hào): SV系列 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:55:41 對(duì)比

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