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化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)“行星式反應器模塊，用于在150/200毫米襯底（Si/藍寶石/SiC）上應用氮化鎵，可提高生產(chǎn)率和晶圓性能"
型號： AIX G5+ C 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/5 19:12:40 對比

半導體沉積
化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)AIX G5 WW C“下一代碳化硅電力電子器件的最佳性能，以應對全球大趨勢"高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
型號： AIX G5 WW... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/5 19:08:47 對比

半導體沉積
化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)AIX 2800G4-TM （IC2）“基于 GaAs/InP 的光電子學和射頻應用的 HVM 最佳反應器"
型號： AIX 2800G... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/5 19:05:13 對比

HVM 最佳反應器半導體沉積
金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)
金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)MOCVD主要由真空室反應系統(tǒng)、氣體（載氣與氣相有機源）輸運控制系統(tǒng)、有機源蒸發(fā)輸運控制系統(tǒng)、電源控制系統(tǒng)、尾氣處理及安全保護報警系統(tǒng)組成...
型號： MOCVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 19:03:08 對比

MOCVD
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備...
型號：線列式PECVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:59:08 對比

化學氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由3個真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個進樣室、1個中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺、工作氣路、傳送機械手、抽...
型號： Cluster P... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:54:49 對比

化學氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由3個真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個進樣室、1個中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺、工作氣路、傳送機械手、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、射頻電...
型號： PECVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:52:34 對比

化學氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。本...
型號： PECVD 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:48:50 對比

化學氣相薄膜沉積
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部...
型號： EB700 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:44:16 對比

電子束蒸發(fā)鍍膜
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部...
型號： EB900 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:40:30 對比

電子束蒸發(fā)鍍膜
高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組...
型號： DZS500 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:36:16 對比

電子束蒸發(fā)鍍膜沈陽科儀
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對接。熱...
型號： DZ450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:29:32 對比

高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
型號： DZ350 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:25:49 對比

熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、抽氣系統(tǒng)、真空測量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
型號： LMBE450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:21:18 對比

分子束外延薄膜沉積
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
型號： JGP560 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:17:28 對比

磁控濺射薄膜沉積
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
型號： JGP450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:13:49 對比

磁控濺射薄膜沉積
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。可廣泛應用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面...
型號： PC450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:09:07 對比

薄膜沉積
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
型號： TRP450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:05:28 對比

磁控濺射薄膜
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于...
型號：線列式所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 18:02:04 對比

磁控濺射
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于...
型號： SMART 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 17:58:42 對比

磁控濺射薄膜沉積

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