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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • RIBER分子束外延4 英寸中試生產系統(tǒng)

    RIBER分子束外延4 英寸中試生產系統(tǒng)正受到越來越多與工業(yè)合作伙伴合作開展應用項目的關鍵研究機構的關注。這種興趣的增加部分歸因于 4 英寸（或 3 x 2 英...
    型號： MBE 412 所在地：法國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:57:45 對比

  • 掩模對準光刻機

    掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
    型號： MA300 Gen... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:53:37 對比

  • 緊透尺寸檢測系統(tǒng)

    可靠、快速和可重復的手動和自動檢測基于VoidInspect的自動氣泡計算易于使用的動態(tài)增強過濾功能，例如eHDR使用micro3Dslice和FF CT軟件的...
    型號： Cougar EV... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:51:43 對比

  • MBE分子束外延系統(tǒng)

    RIBERMBE分子束外延系統(tǒng)Compact 21 已成為有史以來最成功的商用 3 英寸 MBE 系統(tǒng)。憑借核心 Compact 21 DNA 在所有配置（II...
    型號： Compact 2... 所在地：法國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:49:28 對比

  • 原子層沉積儀器ALD

    用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層，是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)電池的陰極和陽極的鈍化，用于柔性太陽...
    型號： Genesis A... 所在地：臺北市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:46:58 對比

  • 涂膠和顯影機

    ACS200 Gen3 涂膠和顯影機是創(chuàng)新組件和經過生產驗證的組件結合的成功結果。它具有多達 4 個濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產 （...
    型號： ACS200 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:45:12 對比

  • 涂膠與顯影機

    ACS300 Gen2 涂布機和顯影劑用于晶圓級封裝的生產旋涂/開發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:41:23 對比

  • 氣相分解金屬沾污收集（VPD）設備

    詳細介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產及再生、先導工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產品。由...
    型號： Seehund&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:37:25 對比

  • 8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備

    詳細介紹Shale® A系列等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD），通過平行電容板電場放電產生等離子體，可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
    型號： Shale... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:35:35 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備

    Shale® C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備（ICP-CVD），通過電感耦合（ICP）產生高密度等離子體，并通過電容耦合（CCP）產生偏壓，可...
    型號： Shale... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:33:51 對比

  • 電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設備

    詳細介紹CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產生化學反應，生成可揮發(fā)產物后，隨真空抽氣...
    型號： Haasrode&... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:31:59 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設備

    Pishow® D 系列深刻蝕設備，是針對8英寸~6英寸產線或科研深硅刻蝕工藝的專用設備，擁有自主開發(fā)的優(yōu)化設計，保證了優(yōu)異的刻蝕精度控制和損傷控制。...
    型號： Pishow... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:29:54 對比

  • 8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備

    詳細介紹ICP是一種加工微納結構的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)...
    型號： Pishow... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:28:05 對比

  • 8英寸金屬刻蝕設備

    Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設計，保證了優(yōu)異的刻蝕均...
    型號： Kessel... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:25:35 對比

  • 8英寸硅刻蝕設備

    Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產型設備設備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch cham...
    型號： Tebaank&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:24:03 對比

  • 12英寸金屬刻蝕設備

    Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備，為針對12英寸IC產業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發(fā)的專用產品， 同時也...
    型號： Herent... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:22:06 對比

  • 12英寸硬掩膜刻蝕設備

    Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設備，為針對 12 英寸 IC 產業(yè)的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（met...
    型號： Herent... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:19:45 對比

  • 8英寸離子束沉積（IBD）設備

    Ganister™ A離子束沉積設備，是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發(fā)的專用產品，在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有...
    型號： Ganister&... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:17:21 對比

  • 8英寸離子束塑形（IBS）設備

    Lorem® A 系列常規(guī) IBS 設備，由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間，起輝不...
    型號： Lorem... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:15:45 對比

  • 12英寸離子束塑形（IBS) 設備

    Pangea®A系列常規(guī)IBS設備由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間，起輝不受非揮發(fā)...
    型號： Pangea... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:13:49 對比
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