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NEXUS物理氣相沉積PVDPX 2000
Fiji等離子增強(qiáng)原子層沉積PEALDPX 2000
NANO 36™熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
Savannah原子層沉積ALDPX 2000
Phoenix原子層沉積ALDPX 2000
GEN2000分子束外延MBEPX 2000
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GENxplor R&DMBE分子束外延系統(tǒng)PX 2000
PLD450高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
PLD300高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
FJL560高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
Epiluvac ER3-C1SiC分子外延系統(tǒng)PX 2000
TurboDisc EPIK 868金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積MOCVDPX 2000
Propel 300mm GaN金屬化學(xué)氣相沉積MOCVDPX 2000
Propel HVM GaN金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積PX 2000
Genesis ALD原子層沉積ALDPX 2000
Lumina AS/P金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2000
Beneq TFS 200/500原子層沉積ALDPX 2000
Beneq P1500原子層沉積ALDPX 2000
NEXUS IBD離子束沉積設(shè)備PX 2000
Beneq P800原子層沉積ALDPX 2000
Beneq P400A原子層沉積ALDPX 2000
NEXUS IBD-LDD離子束沉積設(shè)備PX 2000
MBE 8000分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
AD-230LP等離子體沉積ALDPX 2000
AT410/AT610/AT810熱原子層沉積PX 1858
SENTECH ALAL實(shí)時(shí)監(jiān)控器PX 2000
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統(tǒng)PX 2000
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVDPX 2000
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALDPX 1858
埃沃維克EvoVac 物理氣相沉積平臺PX 2000
EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 2000
Amod物理氣相沉積平臺PX 2000
ESC-101新型離子槍PX 2000
PlasmaPro 1000等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 2000
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
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光刻及涂膠顯影設(shè)備
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旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進(jìn)口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
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Parylene派瑞林真空鍍膜機(jī)
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Parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
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真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
原子層沉積系統(tǒng)
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
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賽默飛色譜及質(zhì)譜
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