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PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
AT-200M桌面原子層沉積系統(tǒng)ALDPX 1858
線列式磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
AT 200M臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1858
PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
SENTECH SILAYOPEARD系統(tǒng)PX 2000
SI PEALDPEALD 系統(tǒng)PX 2000
SI 500 DICPECVD 系統(tǒng)PX 2000
PlasmaPro 100 Nano等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PX 2000
AT-610原子層沉積系統(tǒng)PX 3649
AT-410原子層沉積系統(tǒng)PX 3649
FlexAL原子層沉積(ALD)PX 2000
PlasmaPro 80ICPCVDPX 2000
PD-100ST等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 2000
PD-330STC等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 2000
PD-270STLC等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 2000
PD-200STL等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)PX 2000
PD-220N化學(xué)氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)PX 2000
PD-3800L化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
PD-220NL化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PX 2000
AL-1無(wú)針孔薄膜沉積設(shè)備PX 2000
PD-2201LC化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備PX 2000
Orion Proxima高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
HORIC L200 系列臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
Scaler HK430熱原子層沉積系統(tǒng)PX 2000
EPEE系列等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
eVictor系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2000
MARS iCE120多片碳化硅外延系統(tǒng)PX 2000
MARS iCE115碳化硅外延系統(tǒng)PX 2000
Satur系列多片式MOCVD系統(tǒng)PX 2000
Hesper I E430R12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)PX 2000
Hesper E230A12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)PX 2000
Hesper Ⅱ E630R plus12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)PX 2000
Esther/Eris 系列8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)PX 2000
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進(jìn)口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene鍍膜設(shè)備
Parylene派瑞林真空鍍膜機(jī)
Parylenen派瑞林鍍膜機(jī)
Parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
Parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
原子層沉積系統(tǒng)
日本ULVAC愛(ài)發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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