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CCS系統(tǒng)化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5+ C化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5 WW C化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX 2800G4-TM化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
MOCVD金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積PX 1950
EB700高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟型PX 1582
EB900高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
DZS500高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
DZ450高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
DZ350高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP560高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
AT-200M桌面原子層沉積系統(tǒng)ALDPX 1582
線列式磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
AT 200M臺式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1582
PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SILAYOPEARD系統(tǒng)PX 1950
SI PEALDPEALD 系統(tǒng)PX 1950
SI 500 DICPECVD 系統(tǒng)PX 1950
PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學氣相沉積PX 1950
FlexAL原子層沉積(ALD)PX 1950
PlasmaPro 80ICPCVDPX 1950
PD-100ST等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-330STC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-270STLC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-200STL等離子體增強型CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-220N化學氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-3800L化學氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
PD-220NL化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PX 1950
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