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SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統(tǒng)PX 1950
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVDPX 1950
PlasmaPro 1000等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積ICPCVDPX 1950
Seehund® A 系列氣相分解金屬沾污收集(VPD)設(shè)備PX 1950
Shale® A 系列8英寸等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1950
CCS系統(tǒng)化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5+ C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5 WW C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX 2800G4-TM化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
MOCVD金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
線列式PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Cluster PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積PX 1950
SI 500 DICPECVD 系統(tǒng)PX 1950
PlasmaPro 100 Nano等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PX 1950
PlasmaPro 80ICPCVDPX 1950
PD-100ST等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-330STC等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-270STLC等離子體增強(qiáng)CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-200STL等離子體增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-220N化學(xué)氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-3800L化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
PD-220NL化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PX 1950
PD-2201LC化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備PX 1950
Orion Proxima高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
HORIC L200 系列臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Scaler HK430熱原子層沉積系統(tǒng)PX 1950
customized低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVDPX 1950
customized化學(xué)氣相沉積MOCVDPX 1950
customized等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2449
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備PX 2449
NPE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2449
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2449
NPE-4000(A)全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2449
薄膜生長設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進(jìn)口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene鍍膜設(shè)備
Parylene派瑞林真空鍍膜機(jī)
Parylene派瑞林鍍膜機(jī)
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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